钼靶材

靶材主要广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

正文

钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。

钼靶材纯度：99.9% ，99.99%

规格：圆形靶，板靶，旋转靶

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

参考资料